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PLD五维样品台

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可以在氧氛围中通过红外加热至1000K;
可以通过红外测温仪测温,配合PID电源辅助控温;
集成了面内、轴向的旋转功能;
整体可烘烤至200℃。
 
                             PLD五维样品台

 

      PLD五维样品台专为氧化物PLD系统设计,氧氛围加热样品台可以在10Pa的氧压下配合红外激光器将样品架加热至1000℃,能满足绝大部分氧化物生长需求。样品台拥有五维自由度,其中XY行程25mm,位移精度3um,Z方向行程100mm,精度0.5mm。且能实现绕轴360°旋转与面内360°旋转,这使得五维样品台在进行RHEED监控时可以很方便的通过连续转动样品找到高对称点,这对高质量的单晶薄膜生长与表征是非常重要的。

                                                                                 PLD五维样品台尺寸图

 

 

 

 

 

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