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高低温样品台(Manipulators)
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MBE四维样品台
MBE四维样品台可以实现对样品的精确x,y,z三维平移以及轴向的转动,方便传样、RHEED监控、氩刻等操作。样品台通过液氮开循环制冷,最低温度可达150K。样品台集成了热辐射、支流加热与电...
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MBE五维变温样品台
MBE五维样品台可以实现对样品的精确X,Y,Z三维平移以及轴向的转动,方便传样、RHEED监控、氩刻等操作。样品台通过液氮开循环制冷,最低温度可达150K。相比于MBE四维样品台,五维样品台多了一个...
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PLD五维样品台
PLD五维样品台专为氧化物PLD系统设计,氧氛围加热样品台可以在10Pa的氧压下配合红外激光器将样品架加热至1000℃,能满足绝大部分氧化物生长需求。样品台拥有五维自由度,其中XY行程25mm,位移...
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磁控旋转加热样品台
磁控旋转加热样品台主要用于在磁控溅射时对样品托的控温,样品架背后的灯丝可以实现样品从室温~700℃的大范围均匀变温。整个加热样品台可以实现由电机控制的绕轴旋转,使得生长更加均匀。此外,样品台和加热器...
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PLD标准靶台
激光分子束外延(PLD)利用紫外脉冲激光轰击生长原料(靶材)以实现真空镀膜。PLD标准靶台即是这一过程中盛放原料(靶材)的真空部件,它可以同时安装6个原料靶,每个靶台均有分隔板与保护板,可以实现程控...
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