埃频(上海)仪器科技有限公司

低温蒸发源

 



  • 工作温度:RT~300℃;
  • 可以升级程控shutter以实现多种生长方式;
  • 超高真空兼容
  • 温度和束流稳定性高,配合PID控温电源可以精确调节生长速率;
  • 集成一体化水冷罩和挡板;



产品编号

产品名称

适用法兰

真空内长度

真空内直径

LTC40L250

标准低温蒸发源

DN40CF

250mm

35mm

 

     



    对于一些蒸发温度较低且饱和蒸汽压较高的材料(如有机材料、大分子材  料等),由于其目标温度过低,某些极限情况下生长温度甚至与室温相近。因此传统热蒸发源很难精确控制生长温度,往往会出现升温过快,降温过慢以及坩埚温度不均匀等问题。低温蒸发源选用导热良好的石英坩埚,铜基座通过灯丝加热,通过冷却水降温,能够精确调控铜基座温度。坩埚外壁通过液态金属,与铜基座有非常好的热导,从而确保坩埚与铜基座有同样的温度。同时坩埚周围缠有灯丝,又保证了坩埚能够快速均匀升温以及温度的快速稳定。





 

 

安装法兰

DN40CF(O.D.2.75')/ DN63CF(O.D.4.5')

真空中直径

35mm / 61mm

真空中长度

250mm(长度可定制)

温度范围与热偶型号

RT~300℃ / K-type热电偶

烘烤温度

≤200℃(需要移除所有外部装置)

坩埚容积

10 cm3

坩埚材质

石英

挡板

手动(可定制成电动 / 气动)

水冷参数

流速:≥5 l/min;水压:≤ 5bar;水温:20~30℃

工作气压

1e-11 mbar ~ 1e-5 mbar

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