埃频（上海）仪器科技有限公司
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可以在氧氛围中通过红外加热至850℃，真空中可至1000℃； 可以通过红外测温仪测温，配合PID电源辅助控温； 集成了面内、轴向的旋转功能； 整体可烘烤至200℃。 |
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| PLD五维样品台 | |
PLD五维样品台专为氧化物PLD系统设计，氧氛围加热样品台可以在10Pa的氧压下配合红外激光器将样品架加热至850℃，能满足绝大部分氧化物生长需求。样品台拥有五维自由度，其中XY行程25mm，位移精度3um，Z方向行程100mm，精度0.5mm。且能实现绕轴360°旋转与倾角+45°旋转，使得五维样品台在进行RHEED监控时可以很方便的通过连续转动样品找到高对称点，这对高质量的单晶薄膜生长与表征是非常重要的。
PLD五维样品台尺寸图
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安装方式 |
水平安装 |
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法兰尺寸 |
DN 63 |
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适配样品托 |
旗形样品托（18x15mm, 20x20mm or 定制） |
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样品尺寸 |
5x5mm, 10x10mm or 定制 |
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加热模式 |
红外激光加热 |
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测温方式 |
红外测温仪 |
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XY方向行程 |
25mm |
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XY方向位移精度 |
0.003mm |
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Z方向行程 |
100mm |
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Z方向位移精度 |
0.5mm |
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绕Z轴转动操控模式 |
手动调节 |
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绕Z轴转动角度 |
可连续转 |
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倾角调节模式 |
手动调节 |
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倾角调节范围 |
+/-45° |
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工作气压 |
103~10-11mbar |